Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elar.usfeu.ru/handle/123456789/5338
Title: | Применение метода pH-метки к исследованию поверхности наноструктурированного SiO2 |
Other Titles: | Electrosurface properties of nanostructural silica by epr of molecular pH labels |
Authors: | Молочников, Л. С. Ковалева, Е. Г. Исакова, К. Е. Степанова, Д. П. |
Issue Date: | 2015 |
Publisher: | УГЛТУ |
Citation: | Применение метода pH-метки к исследованию поверхности наноструктурированного SiO2 = Electrosurface properties of nanostructural silica by epr of molecular pH labels / Л. С. Молочников [и др.] // Лесотехнические университеты в реализации концепции возрождения инженерного образования: социально-экономические и экологические проблемы лесного комплекса : материалы X междунар. науч.-техн. конференции / Минобрнауки России, Уральский государственный лесотехнический университет. – Екатеринбург, 2015. – С. 172–175. |
Abstract: | The pH-sensitive NR covalently attached to the SiO2 surface were successfully employed for studying of surface charge change in the drying process with a rise of temperature up to 375 K Ковалентно прикрепленные к поверхности SiO2 pH чувствительные НР были успешно использованы для изучения изменения заряда поверхности в результате высушивания при повышении температуры до 375 К |
Keywords: | КОЛЛОИДНАЯ ХИМИЯ ИССЛЕДОВАНИЕ КИСЛОТНОСТИ СИЛИКАТОВ |
URI: | https://elar.usfeu.ru/handle/123456789/5338 |
ISBN: | 978-5-94984-508-0 |
Origin: | Лесотехнические университеты в реализации концепции возрождения инженерного образования: социально-экономические и экологические проблемы лесного комплекса : материалы X международной научно-технической конференции |
Appears in Collections: | Эффективный ответ на современные вызовы с учетом взаимодействия человека и природы, человека и технологий: социально-экономические и экологические проблемы лесного комплекса |
Files in This Item:
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
Konf_10_2015_055.pdf | 645,86 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.